ହାଲୁକା ଓଜନ ସିଲିକା ଇନସୁଲେସନ୍ ବ୍ରିକ୍ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ସୂକ୍ଷ୍ମ ଭାବରେ ବିଭକ୍ତ ସିଲିକା ଖଣି ଗ୍ରହଣ କରେ | ଜଟିଳ କଣିକା ଆକାର 1 ମିମିରୁ ଅଧିକ ନୁହେଁ, ଏଥିରେ 90% ରୁ ଅଧିକ କଣିକା ଆକାର 0.5 ମିମିରୁ କମ୍ ଅଟେ | ସିଲିକେଟ୍ ଇନସୁଲେସନ୍ ଇଟା ଭାରରେ ଜ୍ୱଳନ୍ତ ପଦାର୍ଥ ଯୋଗ କରି ତିଆରି କରାଯାଇଥାଏ କିମ୍ବା ଫାୟାରିଂ ମାଧ୍ୟମରେ ପୋରସ୍ ଗଠନ ପାଇଁ ଗ୍ୟାସ୍ ବବୁଲ୍ ପଦ୍ଧତି ଗ୍ରହଣ କରାଯାଇଥାଏ, ସିଲିକେଟ୍ ଇନସୁଲେସନ୍ ଇଟା ମଧ୍ୟ ଜଳି ନଥିବା ଉତ୍ପାଦ ଭାବରେ ତିଆରି କରାଯାଇପାରେ |
ହାଲୁକା ଓଜନ ସିଲିକା ଇନସୁଲେସନ୍ ବ୍ରିକ୍ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଅନୁପାତ ଅନୁଯାୟୀ କଞ୍ଚାମାଲ ଏବଂ ଜଳକୁ ଏକ ଚାମଚ ଉପକରଣରେ ରଖି ତା’ପରେ କାଦୁଅରେ ଆଣ୍ଠୁଏ, ମେସିନ୍ କିମ୍ବା ମାନବ ଶକ୍ତି ଦ୍ୱାରା କାଦୁଅରେ ଇଟା ତିଆରି କରେ | ତାପରେ ଅବଶିଷ୍ଟ ଜଳର ମାତ୍ରା 0.5। %% ରୁ କମ୍ ନହେବା ଯାଏଁ ଇଟାକୁ ଶୁଖାନ୍ତୁ, ଯାହାକି SiO2 ର ସ୍ଫଟିକ୍ ରୂପାନ୍ତରଣରୁ ଭଲ୍ୟୁମ୍ ବିସ୍ତାରକୁ ରୋକିଥାଏ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରାରେ ଆକୃତିର ଇଟାକୁ ନିଆଁ ଲଗାଇଥାଏ |
ବସ୍ତୁଗୁଡ଼ିକ | QG-1.0 | QG-1.1 | QG-1.15 | QG-1.2 |
SiO2% | ≥91 | ≥91 | ≥91 | ≥91 |
ବଲ୍କ ସାନ୍ଧ୍ରତା g / cm3 | | .00.00 | ≥1.10 | ≥1.15 | ≥1.20 |
କୋଲ୍ଡ କ୍ରସ୍ ଶକ୍ତି MPa | | ≥2.0 | ≥3.0 | ≥5.0 | ≥5.0 |
ଲୋଡ୍ ° C ରେ 0.1Mpa ରେଫ୍ରାକ୍ଟ୍ରିନ୍ସି | | ≥1400 | 201420 | ≥1500 | 201520 |
ରେଖାର ରେଖା ପରିବର୍ତ୍ତନ (%) 1450 ° C × 2h | | 0 ~ + 0.5 | 0 ~ + 0.5 | 0 ~ + 0.5 | 0 ~ + 0.5 |
20-1000 ° C ତାପଜ ବିସ୍ତାର କୋଏଫିସିଏଣ୍ଟ୍ × 10-6 ℃ -1 | | 1.3 | 1.3 | 1.3 | 1.3 |
ତାପଜ ଚାଳନା (W / (m · K) 350 ° C ± 10 ℃ | | ≤0.55 | ≤0.6 | ≤0.65 | ≤0.7 |
ସିଲିକା ଇନସୁଲେସନ୍ ରିଫ୍ରେକ୍ଟୋରୀ ଇଟା ଗ୍ଲାସ୍ ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍ ଏବଂ ଗରମ ବ୍ଲାଷ୍ଟ ଷ୍ଟୋଭରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ, ସିଲିକା ଇନସୁଲେସନ୍ ବ୍ଲକ୍ ମଧ୍ୟ କୋକ୍ ଚୁଲିରେ, କାର୍ବନ ଫର୍ଜିଂ ଫର୍ଣ୍ଣେସରେ ଏବଂ ଅନ୍ୟ କ industrial ଣସି ଶିଳ୍ପ ଚୁଲିରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |